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UV照射裝置VUS-3100

產品大圖
  • UV照射裝置VUS-3100
  • ORC
  • VUS-3100
  • 日本
  • 30個工作日
  • 產品均為日本,貨期30個工作日,特殊除外

產品詳細介紹

 

特殊無水銀UVランプより放射されるUV光(真空紫外光)によって、非接觸で殘存有機物を除去し、「表面改質」を行うシリーズです。

エキシマ照射裝置 VUS-3100W エキシマ照射裝置 VUS-3100-R
エキシマ照射裝置
VUS-3100
エキシマ照射裝置
VUS-3100-R
室內脫臭機能付き 器具除染用洗浄器 MCU-6030 ハンディエキシマ照射裝置 VUE-3020-172
室內脫臭機能付き 器具除染用洗浄器
MCU-6030
ハンディエキシマ照射裝置
VUE-3020-172

◆ 特 徴

? 従來の表面改質裝置に対し、波長の短い真空紫外光を照射する(フォトンエネルギーが高い)ため、様々な化學結合を切斷?分解する事ができます。また、短時間で同等の改質効果が得られます。
? 瞬時點燈が可能(安定時間が不要)ですので、処理時間の短縮と共にランプ交換周期の低減効果もあります。

◆ メカニズム


? 真空紫外線によりオゾン(O3)?活性酸素(O)が生成されます。
? オゾンや活性酸素は非常に酸化力が強く、有機系の汚れなどは、二酸化炭素?水などに分解可能です。

◆ 表面改質(濡れ性の変化)



數分の照射で大幅に表面の濡れ性が改質されます。

※すべての材質に対して効果を保証するものではありません。使用環境?材質?表面狀態等によって効果は異なります。